1.9:1 多波段紫外制版镜头

　　多波段紫外制版镜头是微电子生产投影式光刻机的核心部件，随着微电子生产工艺不断向微细化、集成化发展，对光刻镜头的要求越来越高。要求具有衍射极限的成像质量、高分辨力、大视场、小畸变，其性能直接决定了光刻机的图形传递能力。制造光刻镜头除了设计出一个成像完善的光学系统和精选优质的光学玻璃外，关键在于光学加工、结构设计装配以及相关的测试技术等。

物方视场：22mm X 12mm （25.0mm   diameter）；

放大倍率：1. 9倍（土 0. 05%）；

像方尺寸：41.8 mm X 22.8 mm（47.5mm   diameter）；

物方数值孔径：0. 12 Na；

物像光路类型：物、像远心光路；

物方工作距离：73.66 mm土0.5mm （从镜头小端机械端面到物面）；

像方工作距离：＞150. 0mm 士1. 0mm（在像方加3mm保护玻璃后机械端面到像面）；

设计波长范围：350 nm ~ 410 nm；

透过率：>73%@355nm、>77%@375nm、>85%@405nm；

对比度（DMD成像）：1）亮场／暗场＞ 5000；

                                    2）对比度=（P亮 - P暗）/P亮×99%）＞99.5%；

镜头固定可靠性：镜头按照现有固定方式安装后，用 M6 的六角匙敲引擎的任意位置，在停止敲击时像的位置能恢复原位，位置变化≤5um；

像面所有视场内   MTF：＞0. 3 @100lp/mm；

                          畸变：＜0.02%（4um）@ 1.9   Field；

                          物、像远心光路：主光线倾角＜0.5度；

焦深：士250µm；

场曲：偏差<60µm；

1．外径：< 100 mm，两端用细牙螺纹；

2．镜头出光端加保护镜片，保护镜片易更换；

3．镜头长度：<206mm；

4．物像共轭距：430.0土1mm；

5．在40W紫外激光（405nm+355nm）照射300小时以上衰减＜3%；

6．内表面做消光处理，且在长时间紫外照射下不挥发变色，杂光≤0.2%，黑白棋盘格比＜0.4%，没有耀斑；