F3 单点膜厚测试仪

KLA的Filmetrics系列利用光谱反射技术实现薄膜厚度的精确测量，其测量范围从nm-mm，可实现如光刻胶、氧化物、硅或者其他半导体膜、有机薄膜、导电透明薄膜等膜厚精确测量，被广泛应用于半导体、微电子、生物医学等领域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款产品，可测量从几mm到450mm大小的样品，薄膜厚度测量范围1nm到mm级。F3-sX可测试众多半导体及电介质层的厚度，可测厚度达3毫米。F3-sX系列配置10微米的测试光斑直径，因而可以快速容易的测量其他膜厚测试仪器不能测量的材料膜层。

测量原理-光谱反射

光谱椭圆偏振仪 (SE) 和光谱反射仪 (SR) 都是利用分析反射光确定电介质，半导体，和金属薄膜的厚度和 折射率。 两者的主要区别在于椭偏仪测量小角度从薄膜反射的光, 而光谱反射仪测量从薄膜垂直反射的光。光谱反射仪测量的是垂直光，它忽略偏振效应 （绝大多数薄膜都是旋转对称）。 因为不涉及任何移动设备，光谱反射仪成为简单低成本的仪器。光谱反射仪可以很容易整合加入更强大透光率分析。光谱反射仪通常是薄膜厚度超过10um的，而椭偏仪侧重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之间，两种技术都可用。 而且具有快速，简便，成本低特点的光谱反射仪通常是更好的选择。

一、主要功能

主要应用

测量较厚薄膜厚度、折射率、反射率和穿透率：

技术能力

光谱波长范围：380-1580 nm

厚度测量范围：10nm-3mm

测量n&k最小厚度：50 nm

准确度：取较大值，50nm或0.2%

精度：5nm

稳定性: 5nm

光斑大小：10µm

样品尺寸：直径从1mm到300mm或更大

二、应用

半导体薄膜：光刻胶、工艺薄膜、介电材料

液晶显示：OLED、玻璃厚度、ITO

光学镀膜：硬涂层厚度、减反涂层

高分子薄膜：PI、PC