膜厚测量仪

KLA的Filmetrics系列利用光谱反射技术实现薄膜厚度的精确测量，其测量范围从nm-mm，可实现如光刻胶、氧化物、硅或者其他半导体膜、有机薄膜、导电透明薄膜等膜厚精确测量，被广泛应用于半导体、微电子、生物医学等领域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款产品，可测量从几mm到450mm大小的样品，薄膜厚度测量范围1nm到mm级。Filmetrics F10-RT以真空镀膜为设计目标，只要单击鼠标即可获得反射和透射光谱。 不需要费时改变硬件配置，F10-RT-UV 仅需要透过单击鼠标就能够同时收集反射与透射光谱，不到一秒钟的时间，阵列的光谱仪就可以快速的收集到资料。另外，Filmetrics 专用的Autobaseline 设计可以减少十倍以上的基准校准的参数读取时间。只需传统价格的一小部分，用户就能进行/分析、确定 FWHM 并进行颜色分析。可选的厚度和折射率模块让您能够充分利用 Filmetrics F10 的分析能力。测量结果能被快速地导出和打印。

一、 主要功能

l 主要应用

同步测量薄膜的反射率和穿透率

Ÿ 空间色彩系统的色彩分析

Ÿ 多层薄膜分析能力

Ÿ 膜厚和参数解算模块

l 技术能力

光谱波长范围：380-1050 nm

厚度测量范围：15nm-70μm

测量n&k最小厚度：100 nm

准确度：取较大值，2nm或0.4%

精度：0.1nm

稳定性：0.07nm

光斑大小：6mm

二、 应用

半导体制造：光刻胶、氧化物、氮化物

液晶显示器：液晶间隙、聚酰亚胺保护膜、纳米铟锡金属氧化物

生物医疗原件：聚合物/聚对二甲苯涂层、生物膜/气泡球厚度、药物涂层支架

微机电系统：硅膜、氮化铝/氧化锌薄膜滤镜

光学镀膜：硬镀膜、增透镀膜、Filters滤光