GV10x安装在灰化器上,通过等离子灰化处理,EM腔体的污染能得到明显改善。通过温和的氧离子灰化处理可对样品和TEM电镜杆表面进行很好的清洗且不对样品产生损伤,详细介绍参考文献: Cleaning TEM Samples on Carbon Films Microscopy-Today January 2014 for a detailed discussion.
等离子清洗机通过加速离子从而达到溅射或者刻蚀样品,而GV/GA中使用氧原子或氢原子通过化学反应消除碳氢化合物。整个过程中并没有热量或者离子轰击产生。氧气将碳氢化合物转化为CO2 CO 或 H2O分子从而通过真空泵抽走。因此,整个处理过程能有效消除碳氢化合物而绝不会损坏样品。
建议使用60l/m的真空泵和80l/s的TMP。
Bench Top A05 GA Chamber P5 Source 2U A05 GA Chamber P5 Source