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半导体集成电路封装制作过程中会对晶片进行切割和研磨,并且会运用超纯水进行洗净,这样就发生了少量的切割研磨废水。研磨废水中含有高浓度以各种情况存在的细小的研磨含硅颗粒物、化学药剂、超纯水以及金属离子物质。该半导体研磨废水的危害性是显而易见的。
目前国内大部分的厂家是采取加药混凝积淀和滤袋过滤方法处理的,出水到达污水综合处理达标排放的规范。有一些厂家尽管是采取膜法过滤处理废水,但膜梗塞重大,清洗频繁,少量使用化学药剂,运行成本昂扬。半导体研磨废水回用的处理方法有很多,由于半导体废水处理技术的应用和发展,使其工艺得到不断改进,工艺更加紧凑,处理效率得到提高。
研磨废水回用处理方法:
(1)通过废水搜集箱搜集硅片研磨发生的废水;
(2)应用水泵将废水泵入多介质过滤器进行过滤;
(3)将经过过滤的水送入保安过滤器进行第二次过滤;
(4)将经过第二次过滤的水送入膜过滤设备中进行深度处理并回用。
莱特莱德在废水回收领域深耕多年,根据研磨废水的特性,合理制定处理工艺。预处理工艺搭配膜法分离系统,对研磨废水的处理效果明显,降低后续膜系统的清洗频率,保证膜系统的长期稳定运行。
莱特莱德废水回用设备总回收率大于75%,废水通过废水回收系统实现了循环利用,因此可节约75%以上废水排污费用。废水回收系统采用特殊膜分离新技术,工艺简单,运行稳定可靠,处理效率高。废水回用系统不仅能有效地节约有限的水资源,从而减轻对水资源的消耗,缓解日趋突出的用水紧张矛盾,而且能减少污水的排放,减轻对周围水体的污染,改善人类居住环境。